مدلسازی فرایند رسوب بخار شمیایی آرسنید گالیوم(CVD)
مشخصات فایل :
مدت زمان آموزش: 25 دقیقه
فایل اجرایی : دارد
توضیحات :
در این فصل از آموزش به شبیه سازی و تحلیل فرایند رسوب بخار شیمیایی آرسنید گالیوم بر روی یک زیرلایه میپردازیم. این روش یک فرایند پر اهمیت در صنعت الکترونیک هست که یک لایه نازک بر روی یک بستر مناسب رشد میکند. در این مثال ابتدا واکنش های شیمیایی به طور جداگانه مدلسازی شده سپس فرایند رسوب بر روی سطح بررسی میشود. این مدلسازی شامل انتقال حرارت، جریان سیال، انتقال گونه و واکنشهای شیمیایی میباشد. در طول آموزش با کلیه شرایط مورد نیاز جهت این شبیه سازی و نحوه خروجی گرفتن به طور کامل آشنا خواهیم شد.
- انتخاب فیزیک مناسب Reaction Engineering, Chemistry, Transport of Diluted Species, Heat transfer, Laminar Flow
- فراخوانی واکنشها و پارامترهای مورد نیاز
- تنظیم فیزیک Reaction Engineering و انجام حل صفر بعدی برای واکنش های شیمیایی
- رسم منحنیهای غلظت مواد و مقایسه آنها
- ایجاد هندسه دو بعدی و فراخوانی فیزیک های مناسب
- فرخوانی خواص انتقالی و ترمودینامیکی مواد
- انجام تنظیمات مورد نیاز فیزیک های انتخاب شده
- ایجاد شبکه و انجام حل
- رسم گراف های غلظت، هدایت حرارتی و نفوذپذیری مواد